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樣品描述:
鍍膜樣品1個
檢測目的:
檢測鎳鈦合金鍍膜層(C、Si、Ni、Ti)變化趨勢。
檢測方法:
ASTM E827-08 :由AES峰判別元素的標準規范;
ASTM E1078- 14(20):表面分析中樣品準備和安裝的標準指南;
ASTM E1829- 14(20):表面分析前樣品處理的標準指南;
ASTM E996- 19 :AES和XPS數據報告的標準規范;
ASTM E1127-08(15):AES分析元素層深分布的標準指南.
檢測儀器:
儀器信號:PHI 710 AES
電子槍:電子束電壓:5kV;電子束電流:10nA.
離子槍:濺射電壓:2kV;濺射面積:1mmx1mm
相對SiO2濺射速率:29. 7 nm/min
檢測結果:
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